Filtra IGS provecta, sigillo C, superficiei imposita, ad systemata gasorum semiconductorum purissimorum destinata.
Descriptio
Filtra HENGKO Superficialiter Montantia designata sunt ad requisita exigentia systematum gasorum integratorum in instrumentis semiconductoribus OEM adhibitis implenda. Filtrationem industriae praestantissimam ad 0.003 µm offerentes, haec filtra praestant efficaciam et firmitatem eximiam cum efficientia interceptionis particularum ≥99.9999999% (9-LRV) ad 120 slpm.
Ex robusto chalybe inoxidabili 316L, pulvere sinterizzato pro elemento et involucro filtratorio constructa, haec filtra cum specificationibus SEMI F86-0304 congruunt, cum componentibus biportalibus, ad systemata distributionis gasi 1.125" cum configuratione C-seal aptatis. Pressionem maximam ingressus 3.4 MPa ad 100°C et differentiam pressionis operativae maximam 0.69 MPa ad 100°C sustinent.
Haec filtra specialia, cum specificationibus sigillorum et typi C et typi W congruentia, munditiam inferiorem cum emissione particularum consequuntur.
Cum superficie Ra< 1.6 µm in exteriori parte et Ra< 0.13 µm intus, ad temperaturas altas usque ad 460°C sustinendas designata sunt. Ad facilem integrationem et emendationes designi modularis fabricata, haec filtra institutionem et sustentationem simplificant, adiuvantes ad efficientiam systematis in applicationibus distributionis et moderationis gasorum semiconductorum optimizandam.
Proprietas Producti
▶ Constructio tota ex chalybe inoxidabili 316L
▶ Designatio miniaturizata, structura compacta, spatium conservans
▶ Excellentes proprietates gasorum substituendi et desorptionis
▶ Resistentia altae temperaturae, altae pressioni, et corrosioni
▶ Involucrum chalybis inoxidabilis 316L electropolitum
▶ Facilis et efficax installatio et conservatio
▶ Obsignatio mechanica, structuraliter non ferrata ad medium
Scheda datorum
| Parametri Technici | Valores |
|---|---|
| Materia Elementi Filtri | Pulvis Sinterizatus Chalybis Inoxidabilis 316L |
| Materia Domus | Chalybs Inoxidabilis 316L |
| Pressio Maxima Ingressus | 3.4 MPa ad 100°C |
| Differentia Operativa Maxima | 0.69 MPa ad 100°C |
| Verificatio Helii Effusionis Ratio | 1x10⁻¹¹ cc/min |
| Ratio Effusionis Probationis Helii | 1x10⁻⁹ cc/min |
| Curatio Superficiei | Superficies Externa Ra< 1.6 μm |
| Superficies Interna Ra< 0.13 μm | |
| Temperatura Operativa Maxima | 460°C |
| Efficacia Interceptionis Particularum | ≥99.9999999% (9-LRV) @ 120 slpm (MPPS referentialis, omnes particulae) |
| Munditia Deorsum Fluminis | Emissio Particularum:< 0.03 particulae/litrum (< 1 particula/ft³) |
| Volatiles:< 10 ppb humiditatis | |
| Magnitudo Interceptionis Particulae | ≥0.003 μm |
| Ambitus Fluminis | 0 ~ 120 slpm |
Magnitudo
Hic est numerus partis quam ordinare potes et magnitudinum singula:
| Exemplar Producti | Fluxus Ratio | Altitudo (mm) | Praecisio Filtrationis | Gradus Purgationis |
|---|---|---|---|---|
| Z01B-00637 | Decem slpm | 51.6 | 0.003 μm | C |
| Z01B-00638 | 40 slpm | 82.9 | 0.003 μm | C |
| Z01B-00687 | 80 slpm | 126.2 | 0.003 μm | C |
| Z01B-00688 | 120 slpm | 167.9 | 0.003 μm | C |
Applicationes Typicae
Ad usum cum W-seal et C-seal, systematibus modularibus gasis adhibiti superficialiter positis 1.125" et 1.5".
Mitte nobis nuntium tuum:
